概要

一般的にガラス表面に過熱蒸気を照射することで、表面に透明膜層が存在すると言われております。

特にPECVDプロセスに効力を発揮いたします。 ガラス基板表面（過熱蒸気照射面）の面内均一が非常に優れ、PECVD効果が向上いたします。

また「濡れ性（密着性）」効果もあり、機材表面の「接触角度」が低くなります。 照射温度・時間によっても異なりますが、角度が一桁になります。これにより薄膜が安定するのです。

※但し、機材の表面精度・過熱蒸気照射環境により若干変化があります。

事例

ガラス（材質にもよりますが、）表面に過熱蒸気を照射する場合、熱歪で照射する際に、割れが発生 することがよくあります。

いきなり常温のガラスに高温蒸気を当てれば強化ガラスでも破損いたします。 弊社では、このような現象を発生させないために、実際に照射する高温蒸気の一部を使い、ガラスの 予熱に使っております。

こうすることで、表面の熱歪を無くし、高温蒸気が均一になります。

弊社では、特にガラス全般の機材をお使いのお客様に提案しておりますが、照射ノズル形状を数種類 用意しております。

スリットノズルにはじまり、ノズル付配管などお客様におかれる最適な環境提案を いたしておりますので、どうぞご安心ください。